资源库 / 11月18日消息，国家知识产权局显示，上海联泰科技股份有限公司获授权专利“一种树脂槽及底投影3D打印系统”（公告号CN 222004452 U）。该专利提出通过在树脂槽底部设置透光底板与多层透氧膜，并在膜层间隙中持续供氧，实现对光固化材料的氧阻聚控制。此设计有效降低固化层与离型膜的粘接力，避免强制分离操作，提高打印效率及精度。专利申请日期为2023年12月。  

资源库 / 11月18日消息，国家知识产权局显示，上海联泰科技股份有限公司获授权专利“一种树脂槽及底投影3D打印系统”（公告号CN 222004452 U）。该专利提出通过在树脂槽底部设置透光底板与多层透氧膜，并在膜层间隙中持续供氧，实现对光固化材料的氧阻聚控制。此设计有效降低固化层与离型膜的粘接力，避免强制分离操作，提高打印效率及精度。专利申请日期为2023年12月。