资源库 / 1月8日消息，据国家知识产权局公告，湖南华曙高科技股份有限公司申请一项名为“一种双光学系统避风分区扫描方法、装置及增材制造设备”，公开号CN117340277A，申请日期为2023年9月。专利摘要显示，这项技术可以通过特定的计算与扫描过程，减少双光学扫描系统的避风等待时间，提高工件的烧结效率。

资源库 / 1月8日消息，据国家知识产权局公告，湖南华曙高科技股份有限公司申请一项名为“一种双光学系统避风分区扫描方法、装置及增材制造设备”，公开号CN117340277A，申请日期为2023年9月。专利摘要显示，这项技术可以通过特定的计算与扫描过程，减少双光学扫描系统的避风等待时间，提高工件的烧结效率。